PRINCIPAL ENGINEER – FE OCT CPEE HVM DRY ETCH
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- Taichung - Fab 16, Taiwan
- 資深
職缺摘要
美光台灣徵求乾蝕刻資深工程師(Principal Engineer)，負責推動全球廠區之電漿製程優化、硬體改善、良率提升與成本效益分析。
摘要由 AI 依英文原文整理成中文，不是逐字翻譯，以官方職缺為準
職缺內容
工作內容
- 帶領生產力、良率、品質與成本改善專案，透過電漿製程優化與硬體驗證與全球團隊合作。
- 推動缺陷減少、微粒控制、CD 均勻度與機台匹配之跨功能團隊合作。
- 制定乾蝕刻之製程與硬體 CIP 藍圖，涵蓋腔體零件、RF 匹配網路及氣體供應等升級。
- 改善乾蝕刻模組（導體、介電質、金屬蝕刻等）之安全、良率、成本與永續性表現。
必備條件
- 具備半導體產業內電漿製程與硬體改善開發經驗，特別是乾蝕刻領域。
- 工程（化工、電機、材料）、物理、材料科學或相關領域學士或碩士學位。
- 具備半導體設備與乾蝕刻製程管理之豐富經驗。
- 具備異常分析(FDC、SPC 異常、機台匹配偏差）及改善經驗。
由英文原文整理成中文的重點，不是逐字翻譯。 看原始職缺的完整內容
技能
- 蝕刻製程
- 統計製程管制
時間軸
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2026-10-02 12:17・49 分鐘前
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